Förutsatt att det finns tillräckligt med oskadade områden, är det enkelt att reparera revor, veck och skrapmärken.
Öppna en skadad fil i Photoshop eller Elements. Gamla bilder lider ofta av diverse skador, som kan ha orsakats från årtionden av dålig behandling. Om det finns oskadade områden i närheten som kan ge material för en reparation, bör det dock inte vara några problem att laga dem.
Du skulle kunna beskära bort hela delar av den skadade ytan, vilket hade gett dig mindre att reparera, men processen är ändå densamma. Först lägger vi till ett lager ovanför bakgrundslagret, väljer Klonstämpeln och aktiverar alternativen ”Justera” och ”Alla lager” i alternativraden. Klona alltid på ett separat lager.
[Alt]/[Option]-klicka på en oskadad del i närheten av skadan. Detta bestämmer samplingspunkten för verktyget. Aktivera sedan [Caps Lock] för att göra muspekaren till ett kikarsikte och flytta den till det skadade området. Avaktivera [Caps Lock] så att du kan se hur stor penseln är, och ändra till en lämplig storlek.
Måla på det skadade området, och se till att samplingspunkten inte hinner ifatt punkten där du började måla. Sampla om ofta så att du undviker upprepande mönster. Sampla områden i närheten av det skadade området, där tonerna och texturerna matchar bättre. I områden med mycket detaljer, zoomar du in, reducerar penselstorleken, och klickar med verktyget istället för målar. Skärmdump tagen från Elements 7.
Klona eller laga?
Revor, skrapmärken och veck kan ofta lagas med Lagningspenseln eller Punktlagningspenseln, men eftersom Lagningsverktygen även blandar reparationerna med omgivningarna, kommer de att orsaka problem där du behöver bevara detaljer och skarpa kanter. Pröva dem gärna där märken och revor sträcker sig in i områden av bilden som saknar detaljer, som gräs och himlar – även om de gör texturen oskarp i sådana områden också.
För att hjälpa reparationerna att blandas in, eller om bilddetaljer fortfarande syns under ett veck och du inte vill täcka över det helt och hållet, kan du pröva att reducera Klonstämpelns opacitet i alternativraden.